流体抛光机为你解答电镀硬铬有哪些工艺特点？
      阴极电流电流效率高，可达22-26%。
　　可使用电流密度高达60安培/平方分米以上，沉积速度因此极大提高。
　　与其它的混合催化剂镀铬工艺不同，RC-25不含氟化物，不会浸蚀工件的低电流区。
　　镀层的显微硬度达1000-1100KHN100镀层的微裂纹数可达1000条/英寸，防腐蚀能力因而提高。
　　镀层平滑，细致光亮。
　　镀层厚度均匀，减少高电流密度之过厚沉积。
　　不会浸蚀铅锡阳极，流体抛光机无需使用特殊阳阴极材料。
　　前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一样。
    1、性能特点
　　工程用镀铬层习惯称为镀硬铬，它有以下特点：
　　耐磨性好，镀铬层随工艺规范不同，可获得不同的硬度400～1200HV。流体抛光滑动摩擦系数约为钢与铸铁的50％，并有抗粘附性。
　　耐腐蚀性较好，镀铬层在轻微的氧化作用下即表面钝化，形成很薄且透明的钝化膜，流体抛光在常温下长期不变色，对镀铬层起保护作用。
　　镀铬层强度随厚度增加而降低，镀铬层与基体结合强度高于自身晶体间结合强度，而抗拉强度与疲劳强度随镀层厚度增加而下降。因此，镀铬层厚度一般应0.3mm。
　　2、镀铬层的应用
　　不带底层的镀铬层，抛光后可直接使用。镀层厚度＜12μm用于模具以提高其耐磨性；镀层厚度12～50μm用于液压装置的柱塞，以提高其密封性和耐磨性；对不重要的配合表面，镀层厚度可＞50μm，镀后磨削达到要求尺寸精度，以补偿磨损量。
　　带底镀层的镀铬层多用于较厚的尺寸补偿。先沉积足够厚度的底层金属（如镍可镀厚lmm)，磨光后再镀铬层。最终磨削为成品后，镀铬层应保持在250μm以内。
　电镀工作者用单相全波，三相半波和六相硅整流电源进行镀铬，流体抛光机镀铬层表面分别出现黑、灰、白色。原我厂用普通六相整流器进行某零件镀铬，其寿命试验只有该产品寿命指标的一半。这些宝贵的数据是电源工作者创造新产品的依据。当前电源功率元件总的趋势是采用自关断晶体三极管和它关断晶闸管，控制方式采用离散式(数字式)和连续式(模拟式)。前者采用了PWM调节原理，由于功率限制、二次击穿和制造工艺复杂，成本相应比较高，后者采用六相晶闸整流器加平滑电抗器，纹波因数小于1%，15000A/12V的整流器电源在平滑电抗器上电压降至3~4V，损耗比较大。